Technologien
FinFET
Die branchenweit umfassendste FinFET-L?sung
Mit über 3 Millionen ausgelieferten Wafern seit 2015 hat sich unsere FinFET-Plattform in Verbraucher- und Industrieanwendungen als weltweit umfassendste und wettbewerbsf?higste FinFET-L?sung in der Produktion bew?hrt.
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Qualifikation der Stufe 1 im Bereich Kfz-Technik
Bis zu 150 °C für Zuverl?ssigkeit auf Industriestandard
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Bibliotheken mit einer einzigen Finne
Für einfachere, kleinere, leckagearme und zuverl?ssige Ein-/Ausg?nge
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12-nm-PPA der n?chsten Generation
Durch die Optimierung der Ecken auf unserer digitalen Plattform lassen sich power von bis zu 7–8 %, eine Leistungssteigerung von 3 % und eine Verringerung der Leckage um 20 % erzielen (im Vergleich zu den Benchmarks für 2025)
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Bis zu 30 % Bodenverdichtung
Im Vergleich zu 22-nm-Planar-Technologie und 7,5 T: branchenführende Werte bei Leistung, power und Fl?che (PPA) für hohe Leistung und reduzierte Chipfl?che
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Strahlungsresistenz durch konstruktive Ma?nahmen
Die 3D-Architektur sorgt für eine h?here Widerstandsf?higkeit gegenüber der Gesamtionisationsdosis (TID) und geringere Soft-Error-Raten und gew?hrleistet so einen zuverl?ssigen Betrieb in rauen Umgebungen
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RF optimized for <15GHz applications
Mit geplanten Verbesserungen im Bereich HF
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Serienerprobte Einflosse
Optimiert für power geringeren power
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Kapazit?tsdichte bis zu 43 fF/?m
Kompakte, leistungsstarke On-Chip-Kondensatoren
Umfassende, individuell anpassbare Erweiterungen für Ihre Anforderungen
Wir bieten Ihnen ma?geschneiderte L?sungen der n?chsten Generation mit anwendungsorientierten Funktionserweiterungen. Ganz gleich, ob Sie eine h?here Ansteuerungsleistung oder power geringeren power ben?tigen – wir erm?glichen es Ihnen, auf unserer FinFET-Prozesstechnologie aufzubauen, um eine L?sung zu entwickeln, die genau auf Ihre Anwendungsanforderungen zugeschnitten ist.
Unsere AutoPro 150 FinFET-L?sungen sind für anspruchsvolle Automobilanwendungen der n?chsten Generation optimiert und bieten eine verbesserte PPA-Leistung (im Vergleich zu branchenüblichen 16-nm-L?sungen für die Automobilindustrie) sowie eine Zertifizierung nach Auto Grade 1 (bis zu 150 °C) für einen zuverl?ssigen, langfristigen Betrieb.
Unsere HF-Optimierung erm?glicht power deutliche power und eine Verkleinerung der Chipfl?che (im Vergleich zu 22-nm-L?sungen), bietet HF-Bauteile für integrierte power (PAs) und sorgt für eine überragende HF- und Analogleistung.
Our ULL enhancement enables longer battery life and lower standby power through advanced UHVT technology and optimized SRAM. Delivering up to 10x lower logic leakage and 30x lower SRAM retention leakage (<0.5 pA/cell), ULL is ideal for power-sensitive and always-on applications. Contact us to explore development opportunities.
H?ufig gestellte Fragen (FAQ)
Unsere FinFET-Prozesstechnologien unterstützen Designs der Kategorie ?Auto Grade 1“ mit einem breiten Spektrum an bew?hrten, speziell auf Automobilanwendungen zugeschnittenen IP-Bl?cken, darunter Logik-, Speicher-, Schnittstellen- und Analog-IP, um sicherheitskritische Anwendungen zu erm?glichen.
Die HF-optimierte Architektur unserer FinFETs bietet hohe Leistung, power und eine Reduzierung der Chipfl?che für HF-Designs und unterstützt damit die modernen drahtlosen Anwendungen von heute.
Unsere FinFET-Prozesstechnologien werden in unserem zertifizierten Werk in Malta, New York, hergestellt und bieten eine sichere und bew?hrte L?sung, die den gesetzlichen Anforderungen der USA entspricht.
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