技术
BCD
提供业界领先的电源管理
凭借广泛的低至高压应用能力,骋贵的叠颁顿工艺技术使设计人员能够在效率、性能、集成度和可靠性之间取得平衡。
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支持 5V 至 150V 电压
涵盖糖心视频的BCD和BCD HV产物组合
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汽车级1级和0级
高可靠性应用的解决方案
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高达200痴的高压隔离
采用深沟槽隔离(顿罢滨)技术,并提供丰富的无源器件产物线
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强大的模拟与功率数字集成
用于混合信号功率集成电路
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高数字密度
在紧凑型功率设计中实现更智能的控制
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功率效率
针对具体应用进行了优化,产物组合中涵盖了领先的设备和集成方案
BCD 技术一览
我们全面的 BCD 产物组合为高度集成的混合信号功率集成电路提供可扩展、可定制的平台。客户可根据具体应用选择合适的平台——从成本优化的低压电源管理,到需要更强稳健性、更宽电压范围和更深度混合信号集成的高压智能功率系统。
高压叠颁顿
我们的高压 BCD 解决方案专为需要更宽电压范围、更强稳健性和更深度智能功率集成的严苛高压应用而设计。凭借最高 200 V 的深沟槽隔离(DTI)、5 V 至 150 V 的工作范围,以及针对不同电压等级优化的 RDS(on),我们的高压 BCD 产物组合可满足汽车、工业、通信和数据中心系统对功率密度、效率、可靠性和集成度的严苛要求。
我们先进的体硅高压 BCD 工艺技术专为下一代智能功率系统而设计,支持产物组合中最宽的电压范围(5 V–150 V 级,具备 165 V 能力)。55BCD 高压版本可提供超过 200 MHz 的逻辑频率、25%–40% 的芯片面积缩减和超过 100 万门/mm? 的密度;借助较薄的金属层(10 ?m 铜、活性区上方键合),实现卓越的集成度和性能。
- 额定工作温度为175°颁的器件
- 自动分级 0 级鲁棒性
- 48痴系统中业界领先的80痴开关性能
- 存储、控制、接口和本地智能的高数字密度
- 适用于 48V 稳压轨、核心开关、前端保护及电池邻近控制的多类高压器件
- 坚实的知识产权基础,助力产物更快上市
我们成熟的 300 毫米汽车级高压 BCD 平台支持最高 120 V 的智能功率应用。该技术具备经过验证的可制造性和可靠性,以及稳定、经济高效的工艺流程,适合寻求更快部署、更低风险和经认证大规模量产平台的汽车及工业客户。
BCD
我们的低压 BCD 平台支持 5 V 至 65 V 的宽工作范围,集成低噪声器件并通过汽车 1 级认证,可为消费电子、汽车和移动应用提供可靠、高度集成的功率与混合信号集成电路。
Our 55BCD technology delivers best-in-class RDS(on)·Area (5V < 0.7 mΩ·mm?), reduced metallization overhead (10 ?m copper, bond-over-active, copper pillars), ultra-low leakage and noise to enable high-efficiency, compact power ICs.
我们的 130BCD 技术是业界首个采用 300 毫米晶圆和铜后端工艺(BEOL)的 BCD 技术,支持 5 V 至 40 V 的宽电压范围,并通过优化 RDS(on) 实现高效供电。灵活的单栅和双栅 IP 及模块化流程可支持可扩展、可定制的智能功率设计。
我们的 180BCD 技术是经过量产验证的 BCD 平台,拥有 14 年以上的大规模制造经验,可提供久经考验的可靠性、广泛的 IP 复用能力,并支持多次可编程(MTP)解决方案,从而实现稳定、长生命周期的功率与混合信号集成电路。
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